鎳靶材

鎳旋轉靶采用冷壓成型工藝和真空熱壓燒結工藝或噴涂工藝制得，尺寸及純度根據客戶要求定制。
鎳平面靶采用冷壓成型工藝和真空熱壓燒結工藝制得，尺寸及純度根據客戶要求定制。

純度：99.9-99.9995%
應用領域：半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、工件表面涂層等。

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